Um estudo da influência do plasma nas superfícies do vidro e do ITO
Plasma, Ângulo de Contato, Microscopia de Força Atômica.
Com os avanços tecnológicos na área de dispositivos eletrônicos se faz necessário o estudo da influência dos substratos sobre as propriedades ópticas, elétricas e morfológicas desses dispositivos. Para a construção desses dispositivos depositam-se filmes finos de macromoléculas sobre o substrato. Com o intuito de estudar a influência da limpeza do vidro sobre as propriedades ópticas e morfológicas de filmes poliméricos foi realizada neste trabalho uma análise da superfície desse substrato. Os vidros foram limpos com plasma de nitrogênio e argônio. Das imagens de microscopia de força atômica da superfície do substrato obtivemos a rugosidade média quadrática e distribuição de alturas. A medida do Ângulo de contato nos permitiu obter a molhabilidade da superfície. As medidas do ângulo de contato foram realizadas usando água (Milli Q). Observa-se tanto para o Vidro como para o ITO que os valores dos ângulos de contato medidos em função do tempo de plasma mostram que a molhabilidade do substrato aumenta com o aumento do tempo. Em relação à variação de pressão do plasma não se observa mudanças significativas nos valores dos ângulos de contato. O ângulo de contato diminui de 50º para ~7º para o vidro e de 90º para ~7º para o ITO. Ambos os substratos são hidrofílicos, porém ao ser exposto ao plasma de Nitrogênio ou a Argônio à superfície torna-se mais hidrofílica permitindo uma boa aderência da água. A rugosidade média quadrática dos substratos não apresenta uma grande variação na rugosidade, no entanto a topografia da superfície varia ficando mais uniforme.