Filmes finos de TiCN e TiC foram depositados sobre aço inoxidável superduplex UNC S32750 com objetivo de realizar um estudo da aplicação da técnica de deposição utilizando gaiola catódica (sputtering em gaiola catódica) e analisar o potencial de melhoria que a deposição desses filmes apresentou em relação a amostra. As amostras foram caracterizadas por Ensaio de Microdureza Vickers, Microscopia Eletrônica de varredura – MEV, Espectroscopia por Energia Dispersiva – EDS, Espectroscopia Raman e espessura de camada. Foi verificado um aumento significativo na microdureza da amostra SD2-500, em uma atmosfera contendo 75% H2+ 25% N2. Foi verificado através do MEV que houve uma excelente deposição do filme fino sobre e substrato. A análise de Espectroscopia por Energia Dispersiva mostrou a presenças de (Ti, C, N) para a condição I e II e (Ti, C) para a condição III. Na Espectroscopia Raman foi verificado as presenças de TiN, TiCN e TiC. Ao analisar a espessura de camada foi verificado uma fina camada de TiCN e TiC, comprovando a formação de um filme fino.