DEPOSIÇÃO POR PLASMA EM GAIOLA CATÓDICA DE ÓXIDOS E NITRETOS DE MOLIBDÊNIO E ÓXIDOS DE TUNGSTÊNIO
Gaiola catódica, filmes finos e molibdênio.
A deposição por plasma utilizando a técnica de gaiola catódica é um dos processos de revestimento superficial que proporciona o melhoramento de determinadas propriedades mecânicas e químicas de diversos materiais, sendo responsável por inovadoras aplicações tecnológicas. A deposição de filmes finos desperta interesses por apresentar essas melhorias. Através desta técnica de deposição à plasma, amostras são envolvidas por uma tela polarizada catodicamente sendo possível a obtenção de camadas uniformes e contínuas, independentemente de suas geometrias. Neste trabalho filmes finos de óxidos ou nitretos de molibdênio e óxidos de tungstênio foram depositados em amostras de aço inoxidável austenítico AISI 316 utilizando uma gaiola catódica de molibdênio com uma tampa do mesmo material ou de tungstênio, combinado com o plasma pulsado, com o objetivo de melhorar suas propriedades mecânicas e tribológicas. As amostras foram caracterizadas através das técnicas de análise de Microdureza Vickers, Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV), Espectroscopia de Energia Dispersiva (EDS), Difração de Raios-X (DRX) e Espectroscopia
Raman. Com base nos resultados obtidos, verificou-se um aumento na dureza superficial do aço inoxidável austenítico, a composição química e as fases presentes nos filmes finos, além de comprovar a homogeneidade e uniformidade da camada depositada. Todos os resultados foram discutidos mostrando a eficiência da técnica de deposição por plasma em gaiola catódica.